Томская компания «Плазменные источники» получила финансирование из Сколково

Томская компания «Плазменные источники» получила финансирование на развитие проекта «Создание нового поколения источников ионов непроводящих твердотельных веществ для полупроводниковой промышленности».

ООО «Плазменные источники» создано при Институте сильноточной электроники Томского научного центра Сибирского отделения РАН. Компания специализируется на научных исследованиях и разработках в области создания ионных источников и генераторов плазмы для модификации поверхностных свойств материалов и фундаментальных исследований. В ноябре 2011 года компании присвоен статус участника инновационного центра «Сколково». Инновационный центр строится в Московской области, однако его инфраструктурными возможностями могут пользоваться компании, ведущие свою деятельность в других городах России, в том числе - в Сибири.

В марте 2012 года заключено соглашение о получении гранта Фонда «Сколково». Проект ООО «Плазменные источники» посвящен созданию ионных источников для производства полупроводниковых элементов нового поколения — элементов микроэлектроники наноразмерной технологии. В лабораторных образцах достигнуты рекордные параметры источников, с точки зрения использования в полупроводниковой технологии, сообщают в администрации Томской области.

Общий объем финансирования проекта на два года составляет 24 млн рублей, из них 18 инвестирует Фонд «Сколково». Основными потенциальными покупателями продукции томских разработчиков являются ведущие зарубежные компании — производители ионно-имплантационного оборудования. Рынок ионных источников оценивается экспертами почти в 75 млн долларов в год, при этом в течение последних 5 лет наблюдается ежегодный рост объемов продаж на уровне 20%.